第434章 前路风雨、各方阻碍，皆由我一力挡下
  台下半导体领域的从业人员都陷入了思考之中。
  目前业內最棘手的问题之前也提到过，除了硅片纯度与晶体缺陷，还有就是电晶体漏电和参数漂移。
  不过这些小林都已经给出了解决方案，所以也算不上难题了。
  倒是还有一个军方最焦虑的问题，就是抗辐射加固的空白。
  不过看林老爷子沉静从容的神態，显然这一点也並非方才所问的核心癥结。
  过了许久，林瑾年缓缓敛去神色，沉声开口道：“我明白了，小同志。”
  他语气平静，一言道破：“当前最大的困境，从来不是设备老旧、工艺落后，而是器件出了故障、参数失控，我们却查不出根源所在。”
  “你想说的根本问题，是我们整个半导体製造工艺长期只建立在反覆试错的经验之上，而非严谨的底层物理规律。”
  这话一出，全场再次寂静，庞教授像是被打通了任督二脉。
  剎那之间，脑海里的思路都变得清晰了起来。
  “是。”林之遥唇畔含笑，頷首道，“您不愧是半导体领域的领军人物，一言切中要点。”
  “我相信业內诸位前辈们未必没有察觉，只是长期受制於技术、人才与理论的多重桎梏，即便看清癥结，也无法落地革新。”
  “贝尔实验室在六七十年代，就搭建起了完整的半导体物理理论体系，每道工艺背后都有物理模型支撑。”
  “他们的器件一旦出现异常，可以回溯第一性原理，从基础量子力学、固体物理方程层层推导，从而精准找到问题，从根源上完成优化叠代。”
  “而我国半导体行业，存在严重的基础物理认知断层，其中的理论鸿沟，保守估计也需要两代科研人埋头深耕，才有希望填平。”